在電鍍生產線上，工（gōng）件在電鍍前進行的一係列前處理都（dōu）是（shì）為（wéi）了得到更好（hǎo）的鍍層，那麽（me）化學拋光在整（zhěng）個前處理中也是（shì）很重要的，下麵我們就來了解一下電鍍前處理的化學（xué）拋光。

       化（huà）學拋光是指在合適的溶液中，不使用（yòng）外接電源，依靠化學浸蝕作用對工件進行的拋光。在化學拋（pāo）光過程中（zhōng），由於金屬微觀表麵形成（chéng）了不均勻（yún）的鈍化膜，或（huò）由於形成了類似電（diàn）解拋（pāo）光過程中所形成的稠質黏膜，從而使（shǐ）表麵微觀凸出（chū）部分（fèn）的溶解速度顯著大（dà）於微觀凹入部分，因此降低了零件的表麵顯微粗糙程度，使零件表麵比較光亮和平整。化學拋光廣泛應用於不鏽鋼、銅及鋁合金等的（de）拋光，還用於對一些零件做裝飾加工。化學拋光可作為電鍍前的處理工序，也可在拋光後輔以（yǐ）必要的防護措施而直接使用。

       與電拋光相比，化學（xué）拋（pāo）光不需要電源和導電掛具（jù），可對形狀複雜的各種尺寸的零件進行拋光，生產效率高。其缺點（diǎn）是溶液使用壽（shòu）命短，濃度的調整和再生比較困難，通常還（hái）會析出一些有害氣體。化學拋（pāo）光的拋光質量也比電拋光（guāng）差，這主要是因為在化學拋（pāo）光中，由於材料的質量不均勻，會引起局部電勢高低不一，產生局部陰陽極區，形成局（jú）部短路（lù）的微電池，使（shǐ）陽極發生局部溶解。而在電拋光中，由（yóu）於外加電勢（shì）的作用可以（yǐ）完全（quán）消除（chú）這種局部的陰極區，從而進行（háng）全（quán）麵的電解，因而效果更好。

       (1)拋光（guāng）液的組成（chéng）及其他影響因素。

       ①拋光液組成：為了保（bǎo）證化（huà）學（xué）拋光的效果，必須使金屬（shǔ）表麵溶解，並在表麵形（xíng）成前述的液體膜或固體膜（mó）。化學拋光液的基本組成一般包括腐蝕劑、氧化（huà）劑、添加（jiā）劑和水。其中，腐蝕劑是主要成分，主要使（shǐ）工件在溶液中溶解；氧化劑和添加劑可抑製腐蝕過程，使反應朝有利於拋光的方向進行（háng）；水對溶液濃度起調節作用（yòng），便於反（fǎn）應產物的擴散（sàn）。

       用作金屬溶解的成分一般（bān）是酸，其中用得較（jiào）多的是（shì）H2S04、HN03、HC1、H3PO。、HF等強酸，而對鋁那樣的兩性金屬，也（yě）可用（yòng）NaOH，在這些酸中由於高濃度的磷酸和硫（liú）酸都具（jù）有較高的黏度，可形成液（yè）體膜擴散層，故這種成分具有兩種功能。這也是在化學拋光液的組成中主要采用磷酸和硫（liú）酸的原因。為了提高黏度，使擴散層容易形成，也可加進（jìn）明（míng）膠或甘油等能（néng）提高黏度的添加劑。為了促進（jìn）固體膜的形成，則需加入以硝酸或鉻酸（suān）為主的強氧化劑。

       ②拋光時間：化學拋（pāo）光存在一個最佳拋光時間範圍。若時間過短，隻能獲得沒有光澤（zé）的梨皮狀（zhuàng）表麵；若（ruò）時間過長，不僅溶液損失增大，而且加工表麵會出現汙點或斑點。而這個時間範圍（wéi）受材料、拋光液組成及拋光溫度等因素的影響，通常難（nán）以預測，隻能通過實驗測定（dìng）。化學拋光中往往同時（shí）產生氫（qīng）氣，這是在拋光具有（yǒu）氫（qīng）脆敏感性材料時必須注（zhù）意的（de）問題。另（lìng）外拋光液溫度高達100—200CC時，還會發生退（tuì）火作用。為（wéi）了把氫脆和退火作用的影響降到（dào）最低，就必須在最適溫度範圍內選擇盡可能短的拋光（guāng）時間。

       ③拋光溫度：化學拋光時，溶解速度隨著拋光液溫度的提高而顯著增加。此外，強氧化性的酸在高溫時（shí）的氧化作用會變得很顯（xiǎn）著。在化學（xué）拋光中，由於這些酸的溶（róng）解作用和氧化作用會同時發生，故多數（shù）情況下都是把拋光液（yè）加熱到（dào）較高溫度（dù）來進行拋（pāo）光的。

       需要提供溫（wēn）度來進行拋光的金屬有鋼鐵、鎳、鉛等，若（ruò）溫度低於某（mǒu）一定值，就會失去光滑的腐蝕表（biǎo）麵（miàn），故存在一個形（xíng）成光（guāng）澤麵的臨界點，在臨界點以上的溫（wēn）度範圍內拋光效（xiào）果較好。而這個溫度範圍又因（yīn）液體的（de）組成（chéng）不同而異（yì），如果高於這個溫度範圍，會形成（chéng）點蝕、局部汙點或斑點，使整個拋光效果降低。此外，溫度越高，材（cái）料的（de）溶解損失也越（yuè）大。

       (2)銅及其合金的化學（xué）拋光。銅和單相銅合金可在磷酸（suān）一硝酸（suān）一醋酸或硫酸一硝酸一鉻酸型溶液中進行化學拋光在使用過（guò）程中需經常補充（chōng）硝酸，拋光時如果二氧化氮析出較少（shǎo），零件表麵呈（chéng）暗黃色時，可按配置量的1/3補充硝酸。為防止過量的水（shuǐ）帶入槽內，零（líng）件應幹燥（zào）後再拋光。

       (3)鋁（lǚ）及鋁合金的化學（xué）拋光。為獲得光亮的表麵，必須嚴格控製（zhì）拋光液硝酸（suān）的含量（liàng）。硝酸含量過（guò）低，拋光速度慢且拋光後表麵光澤性差；硝酸含量過高，容易發生鱗狀腐蝕。磷酸濃（nóng）度低（dī）時，不能獲得光亮的表麵，為了防止溶液被稀釋，拋光前的零件表麵應幹燥。醋酸和硫酸可以抑製點（diǎn）狀腐蝕，使拋光表（biǎo）麵（miàn）均勻、細致。硫酸銨（ǎn）和尿素（sù）可以減少氧化氮的析出，並有助於改善拋光質量。少量的銅離子可以防止過腐蝕，從而提高拋光表麵的均勻性，但含量過高又會降低拋光表麵的反光能力。鉻酐可以提（tí）高鋁鋅銅合金（jīn）的拋光質量，含鋅、銅絲高（gāo）的強（qiáng）度鋁合金在不含鉻酐的拋光液中（zhōng），難以獲得光亮的表麵。

       經化學（xué）拋光的零件，一般應在室溫下於400—500g/L的硝（xiāo）酸中或在100—200g/L的鉻酐溶液中，浸漬（zì）數秒至數十秒，以除去表麵的接觸銅。